证券之星音讯，依据企查查多个方面数据显现晶合集成(688249)新取得一项发明专利授权，专利名为“一种图画传感器及其制备办法”，专利申请号为CN8.0，授权日为2024年6月14日。
专利摘要：本发明供给一种图画传感器及其制备办法，制备办法有以下过程：供给衬底，衬底上顺次构成有金属结构层、硬掩模复合层和榜首TEOS层，硬掩模复合层顺次包含氧化物层和氮化物层；刻蚀榜首TEOS层，刻蚀中止在氮化物层中，以构成开口；选用氮化物层对氧化物层高刻蚀挑选比的刻蚀工艺，在开口处刻蚀所述氮化物层；选用不含氟元素的刻蚀气体，在开口处干法刻蚀所述氧化物层，以经过在金属结构层和榜首TEOS层之间增设硬掩模复合层，以将刻蚀榜首TEOS层时的刻蚀中止层从现有的氮化钛层外表调整至氮化物层中，使得刻蚀榜首TEOS层时刻蚀气体并没有氮化钛触摸，不会发生副产物，一起在刻蚀氧化物层时选用不含氟元素的刻蚀气体，防止生成副产物，并不可能会呈现金属刻蚀缺点。
今年以来晶合集成新取得专利授权163个，较去年同期增加了87.36%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研制方面投入了10.58亿元，同比增23.39%。
由证券之星依据揭露信息收拾，由算法生成(网信算备240019号)，与本站态度无关，如数据存在问题请联络咱们。本文为数据收拾，不对您构成任何出资主张，出资有危险，请慎重决议计划。
证券之星音讯，依据企查查多个方面数据显现晶合集成(688249)新取得一项发明专利授权，专利名为“一种图画传感器及其制备办法”，专利申请号为CN8.0，授权日为2024年6月14日。
专利摘要：本发明供给一种图画传感器及其制备办法，制备办法有以下过程：供给衬底，衬底上顺次构成有金属结构层、硬掩模复合层和榜首TEOS层，硬掩模复合层顺次包含氧化物层和氮化物层；刻蚀榜首TEOS层，刻蚀中止在氮化物层中，以构成开口；选用氮化物层对氧化物层高刻蚀挑选比的刻蚀工艺，在开口处刻蚀所述氮化物层；选用不含氟元素的刻蚀气体，在开口处干法刻蚀所述氧化物层，以经过在金属结构层和榜首TEOS层之间增设硬掩模复合层，以将刻蚀榜首TEOS层时的刻蚀中止层从现有的氮化钛层外表调整至氮化物层中，使得刻蚀榜首TEOS层时刻蚀气体并没有氮化钛触摸，不会发生副产物，一起在刻蚀氧化物层时选用不含氟元素的刻蚀气体，防止生成副产物，并不可能会呈现金属刻蚀缺点。
今年以来晶合集成新取得专利授权163个，较去年同期增加了87.36%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研制方面投入了10.58亿元，同比增23.39%。
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